真空滲碳爐是在低壓真空狀態(tài)下，通過多次強滲+擴散過程，以達到零件滲層深度要求的工藝過程，其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和，在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值，通過調整滲碳、擴散時間比，達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。其優(yōu)點是：

　　1.無內氧化，能顯著提高零件表面疲勞性能。

　　2.處理后畸變小。

　　3.計算機控制，滲碳精度高。

　　4.處理后產品表面呈光亮狀，可不經清洗、噴丸工序。